پایان سلطه ASML؟ چین از سیستم لیتوگرافی EUV خود را رونمایی کرد
چین که مدت‌هاست زیر فشار تحریم‌های تکنولوژیکی قرار دارد، به تازگی قدم بزرگی به سمت خودکفایی برداشته و ابزار جدید خود را برای لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) توسعه داده است. این سیستم جدید که در حال حاضر در مرکز هوآوی در شهر دونگ گوان در حال تست شدن است، از فناوری پلاسمای تخلیه ناشی از لیزر (LDP) استفاده می‌کند و به نظر می‌رسد که می‌تواند به یک رقیب جدی برای غول هلندی این حوزه یعنی ASML تبدیل شود. برای جزئیات بیشتر با شهر سخت افزار همراه شوید.
چین که مدت‌هاست زیر فشار تحریم‌های تکنولوژیکی قرار دارد، به تازگی قدم بزرگی به سمت خودکفایی برداشته و ابزار جدید خود را برای لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) توسعه داده است. این سیستم جدید که در حال حاضر در مرکز هوآوی در شهر دونگ گوان در حال تست شدن است، از فناوری پلاسمای تخلیه ناشی از لیزر (LDP) استفاده می‌کند و به نظر می‌رسد که می‌تواند به یک رقیب جدی برای غول هلندی این حوزه یعنی ASML تبدیل شود. برای جزئیات بیشتر با شهر سخت افزار همراه شوید.
واکنش شما چیست؟
